Comportement À La Corrosion Intrinsèque De Couches Minces À Base D’aluminium (al-m: M=mo, Mg, Y Et Gd) Obtenues Par Co-pulvérisation Cathodique Magnétron

Résumé: La technique de dépôts par pulvérisation cathodique magnétron (PVD) offre une alternative louable pour remplacer les dépôts électrolytiques de chrome dur. Pour cela, des dépôts à base d’aluminium ont été élaborés par PVD afin de répondre aux exigences mécaniques et physico-chimiques. L’objectif de cette étude est d’investiguer la nature du renforcement des propriétés mécaniques pour des revêtements PVD multicouches nanostructurées. Dans le but de réaliser une architecture multicouche nanostructurées, nous avons tout d’abord élaboré et caractérisé des couches binaires à base d’Aluminium (Al-M : M = Mo, Mg, Y et Gd) pouvant servir par la suite à échafauder des systèmes multicouches à l’aide de ces binaires et trouver les candidats potentiels comme anodes sacrificielles pour les aciers de construction. On a trouvé que les alliages Al-Mo ont les propriétés électrochimiques les mieux adaptées par rapport aux alliages Al-Mg, Al-Y et Al-Gd.

Publié dans la revue: Synthèse