Etude De La Modelisation A Deux Dimensions D’un Plasma Dans Un Pulverisateur Cathodique Magnetron
Résumé: Pour étudier les paramètres électriques d’un plasma d'argon utilisé pour la déposition des couches minces de silicium dans un pulvérisateur cathodique magnétron alimenté par une source de tension radiofréquence de fréquence 13.56 MHz, nous appliquons le modèle fluide d'un système stationnaire à deux dimensions. Les propriétés électriques calculées sont la densité électronique, la densité ionique, le champ électrique et le potentiel électrique.
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