Influence De La Polarisation Piezoelectrique Sur Les Transistors Conventionnels Hfet Metal/aigan/gan Et Sur Les Transistors Hfet A Doubles Couches Metal/gan/aigan/gan

Résumé: Dans cet article, nous présentons une étude de l'influence de l'introduction d'une couche de GaN dans le transistor conventionnel Metall AIGaN/GaN entre le contact métal el la couche de la barrière AIGaN . L'introduction de celte couche modifie la hauteur de la barrière de Schottky et, par conséquent, les caractéristiques du transistor et, en particulier, la caractéristique courant-tension via la polarisation piézo-électrique. Nous calculons la densité de charges induite dans les HFET (High Mobility Field Effect Transistor) conventionnels: MetaVAIGaN-300Ao/GaN et dans les transistors à double couches Metal/GaN -75 AO/ALGaN-225 AO/GaN. Ensuite, nous calculons la hauteur de la, barrière de Schottky effective dans la structure à double couche en fonction de l'épaisseur de la couche introduite de GaN pour différentes concentrations en Al, ainsi que la caractéristique courant-tension pour les deux transistors. Ces résultats montrent que l'augmentation de la hauteur de la barrière de Schottky dans la structure à double couche via la polarisation piézo-électrique réduit le courant source-drain dans ce type de transistors.

Publié dans la revue: Communication science et technologie