Etude Par Ellipsométrie De La Structure Du Silicium Nanocristallin Déposé Par Pulvérisation Cathodique Radiofréquence Magnétron
Résumé: Nous nous intéressons dans ce travail, à l'étude de l'effet des conditions de dépôt (température du substrat, du temps de dépôt et au dopage) sur les propriétés structurales des couches du silicium microcristallin déposées par pulvérisation cathodique RF à effet magnéton. Notre étude commence par quelques rappels sur les différentes structures du silicium amorphe hydrogéné et en particulier du silicium microcristallin. Dans le deuxième chapitre nous décrivons en détail la technique d'élaboration des échantillons et les deux techniques de caractérisation optique; l'ellipsométrie spectroscopique et la spectroscopie infrarouge. Le dernier chapitre est consacré aux résultats expérimentaux obtenus. Nous examinons en particulier l'effet de la température du substrat, du temps de dépôt ainsi que l'effet du dopage sur la cristallisation des couches. Nous examinons également les différents modes de vibration des liaisons silicium- hydrogène dans ce matériau.
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