Caractérisation Par Ellipsométrie Spectroscopique (se) Des Films Minces Amorphes De Sioxny : H
Résumé: Les films minces à base de silicium SiOxNy:H, ont élaborés par la technique de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma PECVD. Ces films ont été recuits à des différentes températures de 200 à 1000°C étudiés par la technique ellipsometrie. Cette technique nous a permis d’obtenir les propriétés optiques de ces films, on a choisi un modèle multicouche, et on l’a traité en utilisant deux modèles théoriques (le modèle de Maxwell Garnett et le modèle de Bruggeman). La validation de ces modèles est faite par comparaison entre les spectres calculés et ceux relevés par ellipsométrie, en changeant à chaque fois la température de recuit, qui nous a permis d’accéder à plusieurs propriétés optique, telle que: l’indice de réfraction de ces films ainsi que leurs fractions volumique, épaisseur et aussi les stœchiométrie des films.
Mots-clès:
Nos services universitaires et académiques
Thèses-Algérie vous propose ses divers services d’édition: mise en page, révision, correction, traduction, analyse du plagiat, ainsi que la réalisation des supports graphiques et de présentation (Slideshows).
Obtenez dès à présent et en toute facilité votre devis gratuit et une estimation de la durée de réalisation et bénéficiez d'une qualité de travail irréprochable et d'un temps de livraison imbattable!
Aucun fichier associé
Si le fichier est volumineux, l'affichage peut échouer. Vous pouvez obtenir le fichier directement en cliquant sur le bouton "Télécharger".
