L’effet De La Tension De Polarisation Du Substrat Sur Les Propriétés Des Couches Minces De Carbone Déposées Par Pulvérisation Magnétron
Résumé: RESUME : Ce travail porte sur l’effet de la tension de polarisation du substrat sur les propriétés des couches minces de carbone élaborées par pulvérisation magnétron. L’étude électrique du plasma, pour une puissance injectée et pression de gaz fixés, a montré que la variation de cette tension de polarisation n’a aucun effet sur les autres paramètres impliqués dans processus de dépôt. Les mesures de cette tension, contrôlant l’énergie de bombardement de la couche en croissance, ont été corrélées avec diverses analysées de caractérisation des couches de carbone déposes tels que : Etude structurel réalisée par spectroscopie Raman, l’étude morphologique par MEB, module de Young et de dureté Vickers réalisées par Nano indentation. Mots clés : la tension de polarisation –les couches minces-carbone –la pulvérisation cathodique magnétron
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