Élaboration Et Caractérisation De Couches Minces De Ti-zr-n Déposées Par Pulvérisation

Résumé: La technologie des couches minces a connu un développement accéléré de leurs applications : Dans la micro-électronique, la protection contre l’oxydation et la corrosion, les outils de coupe, les cellules solaires, l’isolation thermique. Les couches minces a base des métaux de transition s dures sont utilisées dans des applications très sèvres dans l’industrie contre l’usure, la corrosion et l’oxydation. Ce travail a pour but de présenter la caractérisation des revêtements Ti – Zr – N, avec différente quantités de Ti et de Zr. Les revêtements TiN, ZrN et Ti – Zr – N étant déposés sur des substrats en silicium et en acier de type XC100 par la technique de pulvérisation cathodique magnétron réactive par radiofréquence. Les revêtements sont caractérisés par diffraction des rayon X, la microanalyse X(EDS,WDS), MEB et nanoidentation. Les résultats obtenus montrent que la surface des films de Ti–Zr–N présente une surface lisse et très dense avec l’adition de Zirconium. Les couches minces de TiN présentent une dureté et un module de Young de l’ordre de (H=19 .53 GPa, E=298 GPa). Les propriétés mécaniques (dureté et module de Young) des couches minces de Ti–Zr–N augmentent avec l’augmentation de la concentration de Zr pour atteigne la valeur maximale de (H= 25.23 GPa, E= 304 GPa) à 26 % de Zr.

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