Etude De Propriétés Thermiques En Phase Gazeuse Lors De La Déposition Dans Les Procédés Lcvd
Résumé: Afin d’étudier la propriété thermique dans les procédés LCVD L’exemple d’application correspond à la déposition de composés de titane, de silicium, de carbone, ou autre. La déposition d’une couche mince par les matériaux à procédé par des LCVD, nous nous proposés un modèle pour le calcul des profils des diffusions des températures des milieux (à la surface de substrat) augment à l’état de gaz par la conduction en surface et par convection dans les gaz. Nous avons résolu l’équation du chaleur par le méthode différence finis et utilise l’algorithme de Gus-Seidel .Les températures sont proches résultats expérimentaux
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