Conditions De Mise En Marche Du Pompage Et Du Refroidissement Cathodique Dans Un Pulvérisateur
Résumé: Les procédés CVD et les procédés PVD sont utilisés dans de nombreux domaines industriels pour la déposition de couches minces. Nous avons présenté la description d'un dispositif de pulvérisation cathodique magnétron permettant la déposition des couches minces. Nous avons proposé la réalisation de deux protocoles expérimentaux. Le premier est pour le PECVD pour un gaz SiH4/H2 ; le deuxième est pour le PVD pour un gaz d'argon. Nous avons présenté les conditions pour obtenir le vide primaire et le vide secondaire nécessaires pour le dépôt d'une couche mince de haute pureté. La loi des gaz parfaits nous a permis de calculer les quantités de gaz pour les conditions de pression. Le temps de réalisation des opérations de vide est estimé. La masse d'eau correspondante au processus de refroidissement est calculé.
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