Calculation Of Concentrations Of Neutral Particles In Sih4/o2 Gas Mixture In Inductively Coupled Plasma (icp).
Résumé: Notre travail s’intéresse au calcul des concentrations de différentes particules neutres, molécules et radicaux, pour un mélange gazeux SiH4/02 utilisé pour la déposition des couches minces dans un Plasma à Couplage Inductif (ICP). Nous avons utilisé les données des travaux de S. Tinck and A. Bogaerts pour Te, Tgas and ne. Nous avons élaboré un programme numérique en langage Fortran 77 pour le calcul des coefficients de diffusion, les constantes des réactions chimiques et les concentrations de différentes molécules. Le programme se base sur le modèle fluide (équation de continuité) la Méthode des Différences Finies et l’algorithme itératif de Gauss-Seidel. Nous avons obtenu les différentes concentrations des molécules ; elles correspondent aux résultats de S. Tinck and A. Bogaerts
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